支援非常關鍵。
論到對這個時代國內最尖端科技的實現方法，最為權威的部門莫過於材料應用所。董老他們查閱大量資料，和所裡的技術儲備，屢屢在郭逸銘他們改造遇到困難的時候，在關鍵地方提出了合理建議，從而使得他們得以突破技術難關。
郭逸銘提供技術思路、材料所負責提供本時代能夠解決的技術、上海裝置廠豐富的半導體裝置製造經驗、何師傅等人的超精密加工能力。他們親密無間的合作，讓裝置改造進度飛快向前。
並且隨著進度的提前，郭逸銘還對在積體電路製造中，居於最關鍵技術環節的光刻機裝置的改造，做出了全新的改進。
光刻是進行積體電路製造的首要環節，其精度、成功率，可以說直接決定了積體電路製造的品質，和產品良品率高低，重要性無論如何拔高，都不為過。
國內當前的光刻機，還採用的是六十年代的接觸式光刻機，在移動掩膜時，不留心就會碰觸到光刻膠。而掩膜上哪怕是出現一個極其細微的損傷，都將給接下來的積體電路製造，帶來無可估量的嚴重後果。
在此之外，國內現在的光刻機紫光照射，是透過透鏡聚焦於一點，對區域性電路進行光刻之後，再對另一個區域性電路進行光刻處理。對比國外已經流行的伺服電機驅動、紫外光聚焦點對掩膜電路進行掃描式曝光，國內的光刻效率非常低下。
郭逸銘沒有興趣跟在外國人屁股後面，亦步亦趨。
他親自動手設計，將原來接觸式光刻平臺，上移之後，透過光學作用，將透鏡凝縮的聚焦點，擴張放大後再縮為一條線。
透過步進電機，精密驅動紫外光前後移動，變換曝光位置。
這可不是什麼掃描式光刻機，而是後世才逐漸成熟，比掃描式光刻機更先進的步進掃描式光刻機。
這種光刻機，透過調整透鏡距離，將原來點狀的紫外光聚焦放大為覆蓋到單晶矽邊緣的條狀曝光區。這樣就可以一次性實現對整條區域內電路的照射曝光，一下子就將光刻效率提升數十倍，既加快了製造效率，又節約了成本，可謂是一舉數得。
為了儘快完成對裝置的改造工作，他們一直從80年11月，忙到了81年的3月下旬。
整整五個多月的時間，他們沒有一天的休息時間。
為了節約每一份每一秒，儘管材料所就在馬路對面，董老他們仍捨不得浪費這麼一點點時間。所有參與技術攻關的人員，吃住都在行政樓內，稍微有一點空閒，他們也用來分析、討論、研究如何對裝置進行自動化改造。有好幾次都已經深更半夜了，腦子裡忽然有了某個思路的董老等人，也爬起來，心急火燎地敲開郭逸銘的房門，與他就此展開論證。
就這樣，他們日以繼夜的投入到改造工作中，所有人都忙得人不像人、鬼不像鬼，每天一直要忙到最後一絲精力都被榨乾才精疲力盡投入夢鄉。他們忙得連打理個人衛生的時間都沒有，只有利用在進潔淨車間經過必須洗漱程式時匆匆洗漱一下。
就這樣，一直忙到81年3月23日，第一套完整的半導體制造裝置終於裝配完成。
裝置的安裝、除錯工作也是一個需要非常小心的活。
高精密的裝置，對工作環境的要求也是同樣苛刻無比。這個時候，就顯出了何師傅等人的本事，他們僅靠著肉眼觀察、光影判斷，就能精確判斷出裝置的傾斜角度是否符合要求，其精確率，絲毫不亞於上海廠幾位拿著測試裝置隨時觀測的工程師，且做出判斷的速度，比他們擺放裝置，從各個角度反覆測量還來得快！
安裝除錯工作又用了將近一個月時間，4月17日，裝置正式啟用，進入試執行。
這是一個足以載入中美電子研究所史冊的日子，當天，所有得知訊息的研究、行政、工人全都放下了手頭的活，聚到了處理器潔淨廠房外。雖然他們不能進去，什麼也看不到、聽不到，但所有人都不肯離去，都默默地等在門口。
幾位曾在無線電一所等好幾家重點科研單位，從事了數十年半導體制造裝置操作，多次榮獲先進工作者、勞動模範稱號的老技術人員，紛紛各就就位。
嚴格的裝置執行前檢查工作，在郭逸銘全體研發人員的矚目下，一絲不苟地進行著。
他們在前期裝置研製改造過程中，就全程參與其中，一些具體操作要領還是源於他們的建議，各種操作流程已經是銘記於胸。在這次開機測試前，他們向郭逸銘拍著胸口保證，哪怕是閉著眼睛，他們也會按照規範要求，圓滿地完成